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納米二氧拋光液的拋光原理
2023-03-29 09:45
納米二氧化硅拋光液的拋光過(guò)程是在拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)的，如上圖所示，在拋光過(guò)程中拋光墊和工件相對(duì)做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，拋光液（磨料）在旋轉(zhuǎn)的拋光墊與工件之間流動(dòng)，在一定壓力、溫度和轉(zhuǎn)速作用下，發(fā)生化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程-簡(jiǎn)稱CMP(Chemical Mechanical Polishing)，因此拋光過(guò)程是在化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用下，使工件表面平整化（拋光）。
在拋光過(guò)程中，拋光液的主要作用：
?、賿伖庾饔?，通過(guò)研磨、腐蝕、吸附反應(yīng)物來(lái)實(shí)現(xiàn)。
②潤(rùn)滑作用。
③冷卻降溫作用。
④沖洗排渣作用。
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