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拋光工藝的影響因素
2023-03-29 09:49
?、贉囟龋簻囟壬撸訌?qiáng)了拋光液化學(xué)反應(yīng)能力，拋光速率增加。但過高的溫度會引起拋光液的揮發(fā)，以及加快化學(xué)反應(yīng)，表面腐蝕嚴(yán)重，因而會產(chǎn)生不均勻的拋光效果，使拋光質(zhì)量下降。
?、趐H值：拋光液的pH值越高，堿性越強(qiáng)，反應(yīng)速率越快。但pH值對被拋表面刻蝕、磨料的分解與溶解度、拋光液的穩(wěn)定性有很大的影響， 從而影響材料的去除率和表面質(zhì)量， 因此應(yīng)嚴(yán)格控制。
?、蹓毫Γ阂话愕兀瑝毫υ酱螅瑨伖馑俾试娇?。但是壓力足夠大時(shí)，拋光速率會略微下降，原因是壓力大，拋光墊承載拋光液能力下降。另外，壓力大易形成破片現(xiàn)象。
?、苻D(zhuǎn)速：轉(zhuǎn)速增加，會引起拋光速率增加。但轉(zhuǎn)速過高又會使拋光液在拋光墊上分布不均勻，影響拋光質(zhì)量。
?、輶伖庖簼舛龋簰伖庖旱臐舛仍黾訒r(shí)，去除率也隨之增加，但當(dāng)磨粒濃度超過某一值時(shí)，材料去除率將停止增加，維持一個(gè)常數(shù)值，這種現(xiàn)象稱為去除飽和。而且過高的濃度，有可能造成表面缺陷(劃痕)增加，影響表面質(zhì)量。
